電子束光刻系統(tǒng)

研判2025！中國電子束光刻系統(tǒng)行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈、市場規(guī)模及重點(diǎn)企業(yè)分析：技術(shù)突破與挑戰(zhàn)并存，展望高質(zhì)量發(fā)展未來[圖]

中國電子束光刻系統(tǒng)行業(yè)正經(jīng)歷從“跟跑”到“并跑”的關(guān)鍵跨越。國產(chǎn)設(shè)備已實(shí)現(xiàn)0.6納米分辨率突破，多光束并行技術(shù)將產(chǎn)能提升至60片/小時(shí)，接近國際先進(jìn)水平。例如，“羲之”電子束光刻機(jī)已量產(chǎn)8納米線寬芯片，支撐量子芯片、碳基材料等前沿領(lǐng)域研發(fā)。2024年，中國電子束光刻系統(tǒng)行業(yè)市場規(guī)模約為2.94億元，同比增長59.78%。