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2026-2032年中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場全景調(diào)研及產(chǎn)業(yè)趨勢(shì)研判報(bào)告
半導(dǎo)體光刻膠
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2026-2032年中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場全景調(diào)研及產(chǎn)業(yè)趨勢(shì)研判報(bào)告

發(fā)布時(shí)間:2025-08-11 11:10:55

《2026-2032年中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場全景調(diào)研及產(chǎn)業(yè)趨勢(shì)研判報(bào)告》共十章,包含中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展環(huán)境洞察&SWOT分析,中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場前景及發(fā)展趨勢(shì)分析,中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)投資戰(zhàn)略規(guī)劃策略及建議等內(nèi)容。

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報(bào)告導(dǎo)讀:

半導(dǎo)體光刻膠作為光刻工藝核心耗材,通過光照改變?nèi)芙舛?,精?zhǔn)復(fù)制電路圖形至晶圓,其性能直接影響芯片分辨率、良率與成本,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈技術(shù)壁壘最高的環(huán)節(jié)之一。我國高度重視其發(fā)展,出臺(tái)了多層次政策文件,從產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、財(cái)稅支持、應(yīng)用推廣等多維度發(fā)力,為技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)能建設(shè)與下游導(dǎo)入提供系統(tǒng)性保障,推動(dòng)行業(yè)加速發(fā)展。當(dāng)前,我國半導(dǎo)體材料行業(yè)處于關(guān)鍵發(fā)展階段,基礎(chǔ)材料批量供應(yīng)能力提升,高端材料也實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵技術(shù)突破,2024年市場規(guī)模達(dá)134.6億美元。其中,半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)2024年市場規(guī)模約56.3億元,KrF光刻膠成中高端替代主力,ArF光刻膠實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵突破。本土企業(yè)已形成多層次產(chǎn)業(yè)梯隊(duì),南大光電、彤程新材等頭部企業(yè)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)并導(dǎo)入供應(yīng)鏈。未來,行業(yè)將沿技術(shù)攻堅(jiān)、生態(tài)協(xié)同與格局重構(gòu)三大主線演進(jìn),實(shí)現(xiàn)高端突破、生態(tài)閉環(huán)與差異化競爭,推動(dòng)高質(zhì)量自主可控轉(zhuǎn)型。

基于此,依托智研咨詢旗下半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)研究團(tuán)隊(duì)深厚的市場洞察力,并結(jié)合多年調(diào)研數(shù)據(jù)與一線實(shí)戰(zhàn)需求,智研咨詢推出《2026-2032年中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場全景調(diào)研及產(chǎn)業(yè)趨勢(shì)研判報(bào)告》。本報(bào)告立足半導(dǎo)體光刻膠新視角,聚焦行業(yè)核心議題——變化趨勢(shì)(怎么變)、用戶需求(要什么)、投放選擇(投向哪)、運(yùn)營方法(如何投)及實(shí)踐案例(看一看),期待攜手行業(yè)伙伴,共謀行業(yè)發(fā)展新格局、新機(jī)遇,推動(dòng)半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展。

觀點(diǎn)搶先知:

行業(yè)概述:半導(dǎo)體光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是一種通過紫外光、電子束、離子束、X射線等照射或輻射后,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料。作為光刻工藝的核心耗材,光刻膠在半導(dǎo)體制造中扮演著將掩模版上的電路圖形精準(zhǔn)復(fù)制到晶圓表面的關(guān)鍵角色。其性能直接影響芯片的分辨率、良率和制造成本,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中技術(shù)壁壘最高的環(huán)節(jié)之一。

政策背景光刻膠作為半導(dǎo)體制造的核心功能性材料,其發(fā)展一直受到國家政策的大力支持。近年來,我國圍繞集成電路與新材料產(chǎn)業(yè)構(gòu)建了多層次、全方位的政策體系,先后出臺(tái)《新時(shí)期促進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展的若干政策》《“十四五”原材料工業(yè)發(fā)展規(guī)劃》《重點(diǎn)新材料首批次應(yīng)用示范指導(dǎo)目錄(2024年版)》《電子信息制造業(yè)2025-2026年穩(wěn)增長行動(dòng)方案》以及《關(guān)于開展2025年度享受增值稅加計(jì)抵減政策的集成電路企業(yè)清單制定工作的通知》等關(guān)鍵文件。這些政策從產(chǎn)業(yè)規(guī)劃、財(cái)稅支持、應(yīng)用推廣、技術(shù)攻關(guān)等多個(gè)維度協(xié)同發(fā)力,不僅將光刻膠明確列為重點(diǎn)突破的新材料,還通過稅收減免、首臺(tái)套保險(xiǎn)補(bǔ)償、示范應(yīng)用牽引等機(jī)制,為半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)的技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)能建設(shè)和下游導(dǎo)入提供了系統(tǒng)性保障,有力推動(dòng)了行業(yè)從技術(shù)攻關(guān)到產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用的加速發(fā)展。

半導(dǎo)體材料市場規(guī)模當(dāng)前我國半導(dǎo)體材料行業(yè)正處于規(guī)模快速擴(kuò)張、結(jié)構(gòu)高端升級(jí)與國產(chǎn)替代加速的關(guān)鍵發(fā)展階段。在產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同與技術(shù)攻堅(jiān)的推動(dòng)下,硅片、電子特氣、濕化學(xué)品等基礎(chǔ)材料已實(shí)現(xiàn)批量供應(yīng)能力,12英寸大硅片國產(chǎn)化率從早期不足10%逐步提升至30%,高純度電子特氣(6N級(jí)以上)成功導(dǎo)入主流晶圓產(chǎn)線;與此同時(shí),光刻膠、CMP拋光墊、高純靶材等高端材料也在關(guān)鍵技術(shù)層面實(shí)現(xiàn)突破,其中KrF/ArF光刻膠已進(jìn)入量產(chǎn)驗(yàn)證階段,部分領(lǐng)先企業(yè)實(shí)現(xiàn)小批量供貨。數(shù)據(jù)顯示:2024年,我國半導(dǎo)體材料市場規(guī)模達(dá)134.6億美元,同比增長約2.85%,顯示出穩(wěn)健的產(chǎn)業(yè)擴(kuò)張態(tài)勢(shì)。

半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模近年來,隨著芯片制程向更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)持續(xù)演進(jìn),市場對(duì)高端光刻膠的需求日益迫切,推動(dòng)我國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)進(jìn)入快速發(fā)展階段。2024年,行業(yè)市場規(guī)模約56.3億元人民幣,展現(xiàn)出強(qiáng)勁的增長勢(shì)頭。在國產(chǎn)替代方面,KrF光刻膠已成為中高端領(lǐng)域替代的主力,而更高端的ArF光刻膠也實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵突破,自給率預(yù)計(jì)將從2024年的不足10%提升至2025年的15%以上。與此同時(shí),以北京大學(xué)科研團(tuán)隊(duì)利用冷凍電子斷層掃描技術(shù)解析光刻膠分子微觀行為為代表的基礎(chǔ)研究突破,為行業(yè)在缺陷控制等關(guān)鍵工藝難題的解決注入了核心驅(qū)動(dòng)力。在此背景下,南大光電、彤程新材等本土頭部企業(yè)已在特定高端產(chǎn)品領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)量產(chǎn)并成功導(dǎo)入客戶供應(yīng)鏈,共同推動(dòng)國產(chǎn)替代進(jìn)程不斷提速,行業(yè)整體競爭力持續(xù)增強(qiáng)。

企業(yè)布局從本土企業(yè)布局來看,已形成多層次、差異化的產(chǎn)業(yè)梯隊(duì)。南大光電作為ArF光刻膠國產(chǎn)領(lǐng)航者,已實(shí)現(xiàn)28nm產(chǎn)品量產(chǎn)并推進(jìn)7nm驗(yàn)證,寧波基地產(chǎn)能持續(xù)擴(kuò)張;彤程新材(含北京科華)是KrF膠龍頭,市占率超40%,同時(shí)推進(jìn)ArF濕法膠量產(chǎn)與EUV封裝膠研發(fā);晶瑞電材(含蘇州瑞紅)為國內(nèi)唯一覆蓋G/I/KrF/ArF全系列的企業(yè),G線市占率居首;上海新陽以“光刻膠+配套材料”協(xié)同發(fā)展為特色;華懋科技(含徐州博康)依托“單體-樹脂-成品”垂直整合實(shí)現(xiàn)成本自主;雅克科技通過收購布局顯示光刻膠,其半導(dǎo)體前驅(qū)體全球市占超20%;容大感光從PCB光刻膠向半導(dǎo)體封測(cè)領(lǐng)域延伸;強(qiáng)力新材則作為光引發(fā)劑關(guān)鍵供應(yīng)商,參股蘇州瑞紅并配套中高端輔料。各企業(yè)均與頭部晶圓廠深度綁定,共同推動(dòng)國產(chǎn)替代進(jìn)程加速。

行業(yè)發(fā)展趨勢(shì):中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)未來將沿著技術(shù)攻堅(jiān)、生態(tài)協(xié)同與格局重構(gòu)三大主線加速演進(jìn),呈現(xiàn)“高端突破、生態(tài)閉環(huán)、差異化競爭”的核心趨勢(shì)。技術(shù)層面,將從KrF光刻膠的穩(wěn)定量產(chǎn)向ArF干濕法產(chǎn)品的制程適配縱深突破,聚焦線寬控制、缺陷密度等關(guān)鍵指標(biāo)優(yōu)化,同時(shí)啟動(dòng)EUV光刻膠及下一代材料的前瞻性研發(fā),同步推進(jìn)核心原材料自主化與環(huán)保配方升級(jí)。產(chǎn)業(yè)生態(tài)上,“單體-樹脂-成品”垂直整合模式加速落地,光刻膠企業(yè)與晶圓廠、設(shè)備廠商建立聯(lián)合開發(fā)機(jī)制以縮短驗(yàn)證周期,長三角等產(chǎn)業(yè)集群進(jìn)一步集聚研發(fā)、中試與量產(chǎn)資源,形成全鏈條協(xié)同創(chuàng)新體系。競爭格局中,本土企業(yè)將在中高端領(lǐng)域憑借性價(jià)比與快速響應(yīng)優(yōu)勢(shì)擴(kuò)大份額,通過并購或細(xì)分場景聚焦構(gòu)建特色競爭力,與國際巨頭形成差異化博弈,在政策持續(xù)加碼與下游需求拉動(dòng)下,逐步實(shí)現(xiàn)從“替代”到“優(yōu)選”的跨越,推動(dòng)行業(yè)向高質(zhì)量自主可控轉(zhuǎn)型。

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【特別說明】
1)內(nèi)容概況部分為我司關(guān)于該研究報(bào)告核心要素的提煉與展現(xiàn),內(nèi)容概況中存在數(shù)據(jù)更新不及時(shí)情況,最終出具的報(bào)告數(shù)據(jù)以年度為單位監(jiān)測(cè)更新。
2)報(bào)告最終交付版本與內(nèi)容概況在展示形式上存在一定差異,但最終交付版完整、全面的涵蓋了內(nèi)容概況的相關(guān)要素。報(bào)告將以PDF格式提供。
報(bào)告目錄

第1章半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)綜述及數(shù)據(jù)來源說明

1.1 光刻膠行業(yè)界定

1.1.1 光刻膠的定義

1.1.2 光刻是半導(dǎo)體制造微圖形工藝的核心,光刻膠是關(guān)鍵材料

1.1.3 光刻膠技術(shù)參數(shù)

1.1.4 光刻膠所處行業(yè)

1.1.5 按下游應(yīng)用分類

1、半導(dǎo)體光刻膠

2、顯示光刻膠

3、PCB光刻膠

4、其他

1.2 半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)分類

1.3 本報(bào)告研究范圍界定說明

1.4 光刻膠行業(yè)市場監(jiān)管&標(biāo)準(zhǔn)體系

1.5 本報(bào)告數(shù)據(jù)來源及統(tǒng)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)說明

1.5.1 本報(bào)告權(quán)威數(shù)據(jù)來源

1.5.2 本報(bào)告研究方法及統(tǒng)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)說明

第2章全球半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及趨勢(shì)洞察

2.1 全球光刻膠行業(yè)發(fā)展歷程

2.1.1 萌芽期

2.1.2 初步發(fā)展期

2.1.3 快速發(fā)展期

2.2 全球光刻膠技術(shù)進(jìn)展及產(chǎn)品研發(fā)進(jìn)度

2.2.1 全球半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)進(jìn)展情況

2.2.2 全球半導(dǎo)體光刻膠廠商產(chǎn)品研發(fā)進(jìn)度

2.3 全球半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀分析

2.3.1 全球半導(dǎo)體光刻膠工廠分布

2.3.2 全球半導(dǎo)體光刻膠量產(chǎn)進(jìn)度

2.3.3 全球半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分市場

2.3.4 全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及光刻膠需求分析

2.4 全球半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場競爭狀態(tài)及格局分析

2.5 全球半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場規(guī)模體量及前景預(yù)判

2.5.1 全球半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場規(guī)模體量

2.5.2 全球半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場前景預(yù)測(cè)

2.5.3 全球半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)洞悉

2.6 全球半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展經(jīng)驗(yàn)總結(jié)和有益借鑒

第3章中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及市場痛點(diǎn)

3.1 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展歷程

3.2 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)技術(shù)進(jìn)展

3.2.1 半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)科研投入

3.2.2 半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)科研創(chuàng)新

3.2.3 半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)關(guān)鍵技術(shù)

3.2.4 半導(dǎo)體光刻膠制備過程

3.3 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)對(duì)外貿(mào)易狀況

3.3.1 海關(guān)總署——半導(dǎo)體光刻膠歸類

3.3.2 中國光刻膠進(jìn)出口貿(mào)易概況

3.3.3 中國光刻膠進(jìn)口貿(mào)易狀況

1、光刻膠行業(yè)進(jìn)口貿(mào)易規(guī)模

2、光刻膠行業(yè)進(jìn)口價(jià)格水平

3、光刻膠行業(yè)進(jìn)口產(chǎn)品結(jié)構(gòu)

3.3.4 中國光刻膠出口貿(mào)易狀況

1、光刻膠行業(yè)出口貿(mào)易規(guī)模

2、光刻膠行業(yè)出口價(jià)格水平

3、光刻膠行業(yè)出口產(chǎn)品結(jié)構(gòu)

3.3.5 中國光刻膠行業(yè)進(jìn)出口貿(mào)易影響因素及發(fā)展趨勢(shì)

3.4 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場主體

3.5 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場供給分析

3.6 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場需求分析

3.6.1 半導(dǎo)體光刻膠需求量(萬噸)

3.6.2 半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)自給率

3.6.3 半導(dǎo)體光刻膠市場行情走勢(shì)

3.7 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場規(guī)模體量

3.7.1 中國光刻膠行業(yè)市場規(guī)模體量

3.7.2 半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場規(guī)模體量

3.8 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場競爭格局

3.9 中國半導(dǎo)體光刻膠國產(chǎn)替代布局現(xiàn)狀

3.9.1 中國半導(dǎo)體光刻膠國產(chǎn)替代必然性分析

1、半導(dǎo)體光刻膠處于各行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈上游,具有舉足輕重的地位

2、半導(dǎo)體材料國產(chǎn)化的必然趨勢(shì)

3、光刻膠國產(chǎn)代替是中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的迫切需要

3.9.2 中國半導(dǎo)體光刻膠國產(chǎn)替代現(xiàn)狀

3.9.3 中國半導(dǎo)體光刻膠國產(chǎn)替代趨勢(shì)

3.10 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場發(fā)展痛點(diǎn)

第4章半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈全景及配套產(chǎn)業(yè)發(fā)展

4.1 半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu)梳理

4.2 半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈生態(tài)圖譜

4.3 半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈區(qū)域熱力圖

4.4 半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)成本投入結(jié)構(gòu)

4.4.1 光刻膠在半導(dǎo)體成本中的比重

4.4.2 光刻膠原材料構(gòu)成及主要作用

4.4.3 半導(dǎo)體制造材料成本結(jié)構(gòu)

4.4.4 日本和美國主導(dǎo)全球光刻膠原材料市場

4.5 光刻膠原材料:光刻膠單體及樹脂

4.5.1 光刻膠用樹脂類型及特征

4.5.2 光刻膠單體概述

4.5.3 樹脂市場供應(yīng)情況

1、產(chǎn)品供應(yīng)情況

2、產(chǎn)品供應(yīng)商情況

3、產(chǎn)品價(jià)格情況

4.5.4 光刻膠用樹脂發(fā)展趨勢(shì)

4.6 光刻膠原材料:光敏材料

4.6.1 光刻膠用光敏材料概述

1、光引發(fā)劑

2、光致產(chǎn)酸劑——光酸(PAG)

4.6.2 光引發(fā)劑市場供應(yīng)情況

1、產(chǎn)品供應(yīng)情況

2、產(chǎn)品供應(yīng)商情況

3、產(chǎn)品價(jià)格情況

4.6.3 光刻膠用光引發(fā)劑發(fā)展趨勢(shì)

4.7 光刻膠原材料:溶劑

4.7.1 光刻膠用溶劑概述

4.7.2 溶劑市場供應(yīng)情況

1、產(chǎn)能建設(shè)及產(chǎn)品應(yīng)用情況

2、產(chǎn)品供應(yīng)情況

3、產(chǎn)品供應(yīng)商情況

4、產(chǎn)品價(jià)格情況

4.7.3 光刻膠用溶劑發(fā)展趨勢(shì)

4.8 光刻膠原材料:其他助劑

4.9 配套產(chǎn)業(yè)布局對(duì)半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)的影響總結(jié)

第5章中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)細(xì)分產(chǎn)品市場分析

5.1 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)細(xì)分市場概況

5.1.1 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)細(xì)分市場對(duì)比

5.1.2 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)細(xì)分市場結(jié)構(gòu)

5.2 半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分市場:G線光刻膠

5.2.1 G線光刻膠概述

5.2.2 G線光刻膠市場簡析

5.3 半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分市場:I線光刻膠

5.3.1 I線光刻膠概述

5.3.2 I線光刻膠市場簡析

5.4 半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分市場:KrF光刻膠

5.4.1 KrF光刻膠概述

5.4.2 KrF光刻膠市場簡析

5.5 半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分市場:ArF光刻膠

5.5.1 ArF光刻膠概述

5.5.2 ArF光刻膠市場簡析

5.6 半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分市場:EUV光刻膠

5.6.1 EUV光刻膠概述

5.6.2 EUV光刻膠市場簡析

5.7 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)細(xì)分市場影響因素及發(fā)展趨勢(shì)

5.7.1 半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分市場影響因素

5.7.2 半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分市場發(fā)展趨勢(shì)

5.8 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)細(xì)分市場戰(zhàn)略地位分析

第6章中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)細(xì)分應(yīng)用市場分析

6.1 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)市場現(xiàn)狀

6.1.1 全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向中國大陸轉(zhuǎn)移

6.1.2 中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)市場規(guī)模

6.1.3 中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)細(xì)分市場

6.1.4 中國集成電路市場規(guī)模

6.1.5 中國集成電路市場結(jié)構(gòu)

6.2 中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)趨勢(shì)前景

6.2.1 中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)前景預(yù)測(cè)

6.2.2 中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢(shì)

6.3 半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分應(yīng)用領(lǐng)域分布

6.4 半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分應(yīng)用:邏輯IC

6.4.1 邏輯IC領(lǐng)域半導(dǎo)體光刻膠應(yīng)用概述

6.4.2 邏輯IC市場現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)

1、邏輯IC市場現(xiàn)狀

2、邏輯IC發(fā)展趨勢(shì)

6.4.3 邏輯IC領(lǐng)域半導(dǎo)體光刻膠應(yīng)用市場現(xiàn)狀

6.4.4 邏輯IC領(lǐng)域半導(dǎo)體光刻膠應(yīng)用市場潛力

6.5 半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分應(yīng)用:動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(DRAM)

6.5.1 動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(DRAM)領(lǐng)域半導(dǎo)體光刻膠應(yīng)用概述

6.5.2 動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(DRAM)市場現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)

1、動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(DRAM)市場現(xiàn)狀

2、動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(DRAM)發(fā)展趨勢(shì)

6.5.3 動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(DRAM)領(lǐng)域半導(dǎo)體光刻膠應(yīng)用市場現(xiàn)狀

6.5.4 動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(DRAM)領(lǐng)域半導(dǎo)體光刻膠應(yīng)用市場潛力

6.6 半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分應(yīng)用:NVM(非易失性內(nèi)存)

6.6.1 NVM(非易失性內(nèi)存)領(lǐng)域半導(dǎo)體光刻膠應(yīng)用概述

6.6.2 NVM(非易失性內(nèi)存)市場現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)

1、NVM(非易失性內(nèi)存)市場現(xiàn)狀

2、NVM(非易失性內(nèi)存)發(fā)展趨勢(shì)

6.6.3 NVM(非易失性內(nèi)存)領(lǐng)域半導(dǎo)體光刻膠應(yīng)用市場現(xiàn)狀

6.6.4 NVM(非易失性內(nèi)存)領(lǐng)域半導(dǎo)體光刻膠應(yīng)用市場潛力

6.7 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)細(xì)分應(yīng)用市場戰(zhàn)略地位分析

第7章全球及中國半導(dǎo)體光刻膠企業(yè)布局案例解析

7.1 全球及中國半導(dǎo)體光刻膠主要企業(yè)布局梳理

7.2 全球半導(dǎo)體光刻膠主要企業(yè)布局案例分析

7.2.1 日本合成橡膠(JSR)

1、企業(yè)發(fā)展基本情況

2、企業(yè)主要產(chǎn)品分析

3、企業(yè)經(jīng)營狀況分析

4、企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析

7.2.2 日本信越化學(xué)

1、企業(yè)發(fā)展基本情況

2、企業(yè)主要產(chǎn)品分析

3、企業(yè)經(jīng)營狀況分析

4、企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析

7.2.3 日本東京應(yīng)化(TOK)

1、企業(yè)發(fā)展基本情況

2、企業(yè)主要產(chǎn)品分析

3、企業(yè)經(jīng)營狀況分析

4、企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析

7.2.4 美國杜邦

1、企業(yè)發(fā)展基本情況

2、企業(yè)主要產(chǎn)品分析

3、企業(yè)經(jīng)營狀況分析

4、企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析

7.2.5 日本富士膠片

1、企業(yè)發(fā)展基本情況

2、企業(yè)主要產(chǎn)品分析

3、企業(yè)經(jīng)營狀況分析

4、企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析

7.3 中國半導(dǎo)體光刻膠主要企業(yè)布局案例分析

7.3.1 華懋(廈門)新材料科技股份有限公司

1、企業(yè)發(fā)展基本情況

2、企業(yè)主要產(chǎn)品分析

3、企業(yè)經(jīng)營狀況分析

4、企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析

7.3.2 晶瑞電子材料股份有限公司

1、企業(yè)發(fā)展基本情況

2、企業(yè)主要產(chǎn)品分析

3、企業(yè)經(jīng)營狀況分析

4、企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析

7.3.3 深圳市容大感光科技股份有限公司

1、企業(yè)發(fā)展基本情況

2、企業(yè)主要產(chǎn)品分析

3、企業(yè)經(jīng)營狀況分析

4、企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析

7.3.4 江蘇南大光電材料股份有限公司

1、企業(yè)發(fā)展基本情況

2、企業(yè)主要產(chǎn)品分析

3、企業(yè)經(jīng)營狀況分析

4、企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析

7.3.5 上海新陽半導(dǎo)體材料股份有限公司

1、企業(yè)發(fā)展基本情況

2、企業(yè)主要產(chǎn)品分析

3、企業(yè)經(jīng)營狀況分析

4、企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析

7.3.6 彤程新材料集團(tuán)股份有限公司

1、企業(yè)發(fā)展基本情況

2、企業(yè)主要產(chǎn)品分析

3、企業(yè)經(jīng)營狀況分析

4、企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析

7.3.7 廈門恒坤新材料科技股份有限公司

1、企業(yè)發(fā)展基本情況

2、企業(yè)主要產(chǎn)品分析

3、企業(yè)經(jīng)營狀況分析

4、企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析

7.3.8 上海飛凱材料科技股份有限公司

1、企業(yè)發(fā)展基本情況

2、企業(yè)主要產(chǎn)品分析

3、企業(yè)經(jīng)營狀況分析

4、企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析

7.3.9 北京欣奕華科技有限公司

1、企業(yè)發(fā)展基本情況

2、企業(yè)主要產(chǎn)品分析

3、企業(yè)經(jīng)營狀況分析

4、企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析

7.3.10 北京科華微電子材料有限公司

1、企業(yè)發(fā)展基本情況

2、企業(yè)主要產(chǎn)品分析

3、企業(yè)經(jīng)營狀況分析

4、企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略分析

第8章中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展環(huán)境洞察&SWOT分析

8.1 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)經(jīng)濟(jì)(Economy)環(huán)境分析

8.1.1 中國宏觀經(jīng)濟(jì)發(fā)展現(xiàn)狀

8.1.2 中國宏觀經(jīng)濟(jì)發(fā)展展望

8.1.3 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展與宏觀經(jīng)濟(jì)相關(guān)性分析

8.2 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)社會(huì)(Society)環(huán)境分析

8.2.1 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)社會(huì)環(huán)境分析

8.2.2 社會(huì)環(huán)境對(duì)半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展的影響總結(jié)

8.3 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)政策(Policy)環(huán)境分析

8.3.1 國家層面半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)政策規(guī)劃匯總及解讀

1、國家層面半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)政策匯總及解讀

2、國家層面半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)規(guī)劃匯總及解讀

8.3.2 31省市半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)政策規(guī)劃匯總及解讀

1、31省市半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)政策規(guī)劃匯總

2、31省市半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展目標(biāo)解讀

8.3.3 國家重點(diǎn)規(guī)劃/政策對(duì)半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展的影響

8.3.4 政策環(huán)境對(duì)半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展的影響總結(jié)

8.4 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)SWOT分析

第9章中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場前景及發(fā)展趨勢(shì)分析

9.1 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展?jié)摿υu(píng)估

9.2 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)未來關(guān)鍵增長點(diǎn)分析

9.3 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展前景預(yù)測(cè)

9.4 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)預(yù)判

9.4.1 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)市場競爭趨勢(shì)

9.4.2 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)技術(shù)創(chuàng)新趨勢(shì)

9.4.3 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)細(xì)分市場趨勢(shì)

1、EUV光刻膠的比重將會(huì)提升

2、ArF光刻膠國產(chǎn)替代有望加快

第10章中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)投資戰(zhàn)略規(guī)劃策略及建議

10.1 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)進(jìn)入與退出壁壘

10.1.1 半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)進(jìn)入壁壘分析

1、技術(shù)壁壘

2、客戶認(rèn)證壁壘

3、設(shè)備壁壘

4、原材料壁壘

5、資金壁壘

6、資質(zhì)壁壘

10.1.2 半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)退出壁壘分析

10.2 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)投資風(fēng)險(xiǎn)預(yù)警

10.3 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)投資機(jī)會(huì)分析

10.3.1 半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈薄弱環(huán)節(jié)投資機(jī)會(huì)

10.3.2 半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)細(xì)分領(lǐng)域投資機(jī)會(huì)

10.3.3 半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)區(qū)域市場投資機(jī)會(huì)

10.3.4 半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)業(yè)空白點(diǎn)投資機(jī)會(huì)

10.4 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)投資價(jià)值評(píng)估

10.5 中國半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)投資策略與建議

圖表目錄

圖表1:光刻膠的定義

圖表2:一種NMOS三極管集成電路結(jié)構(gòu)的制造過程

圖表3:半導(dǎo)體光刻膠涂抹方法

圖表4:光刻膠主要技術(shù)參數(shù)

圖表5:本報(bào)告研究領(lǐng)域所處行業(yè)

圖表6:光刻膠行業(yè)所屬的國民經(jīng)濟(jì)分類

圖表7:光刻膠專業(yè)術(shù)語

圖表8:光刻膠概念辨析

圖表9:光刻膠按下游應(yīng)用分類

圖表10:半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)品分類及特征

圖表11:半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)分類

圖表12:本報(bào)告研究范圍界定

圖表13:光刻膠行業(yè)監(jiān)管體系及機(jī)構(gòu)介紹

圖表14:GB/T 16527-2024年(硬面感光板中光致抗蝕劑和電子束抗蝕劑)基本內(nèi)容

圖表15:晶瑞電材光刻膠企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)匯總

圖表16:Q/320506 ZRH47-2020(I線正性光刻膠)部分產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容

圖表17:本報(bào)告權(quán)威數(shù)據(jù)資料來源匯總

圖表18:本報(bào)告的主要研究方法及統(tǒng)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)說明

圖表19:全球光刻膠行業(yè)在萌芽期的重要事件

圖表20:全球光刻膠行業(yè)在初步發(fā)展期的重要事件

圖表21:全球光刻膠行業(yè)在快速發(fā)展期的重要事件

圖表22:全球半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)進(jìn)展情況

圖表23:全球半導(dǎo)體光刻膠廠商產(chǎn)品研發(fā)進(jìn)度情況

圖表24:全球半導(dǎo)體光刻膠工廠分布情況

圖表25:全球半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)主要企業(yè)生產(chǎn)進(jìn)度

圖表26:全球半導(dǎo)體光刻膠行業(yè)細(xì)分產(chǎn)品應(yīng)用占比(單位:%)

圖表27:全球光刻膠應(yīng)用結(jié)構(gòu)(單位:%)

圖表28:全球光刻膠行業(yè)主要兼并、重組事件

圖表29:全球光刻膠行業(yè)的競爭梯隊(duì)(按市場份額)

圖表30:全球光刻膠行業(yè)市場份額(單位:%)

更多圖表見正文……

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