2019年中國半導體清洗設備行業(yè)市場容量及現(xiàn)狀分析：隨著制程推進，清洗步驟不斷增加[圖]

    目前中國已成為了全球最大的電子產(chǎn)品生產(chǎn)消費市場，對半導體產(chǎn)品的需求大。2019年，中國大陸地區(qū)的半導體銷售額占全球的35%，且銷售額的增速持續(xù)高于國際市場，中國已經(jīng)成為全球最具活力和前景的半導體產(chǎn)品市場。2019年第四季度以來全球半導體行業(yè)逐漸復蘇，產(chǎn)業(yè)開啟了新一輪的補庫存周期，因此2020年第一季度國內(nèi)半導體行業(yè)表現(xiàn)良好，1月、2月的半導體銷售額分別同比增長5.2%、5.5%，第一季度的集成電路產(chǎn)量同比大幅增長16%。

    半導體銷售額及同比增速

數(shù)據(jù)來源：公開資料整理

    隨著晶圓廠投資的增加，國內(nèi)的半導體設備的需求也在迅速增加。2019年中國大陸地區(qū)的設備銷售額為134.5億美元，占全球市場的22.5%，成為全球第二大半導體設備市場。在國內(nèi)的設備市場中，臺積電、英特爾、三星、SK海力士等非大陸地區(qū)廠商的設備需求約占50%，因此大陸地區(qū)芯片廠的設備需求占全球的11%左右。

    全球半導體月度銷售額（十億，美金）

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    國內(nèi)半導體銷售額與增速

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    清洗設備在半導體設備市場中價值量占比約5-6%，相較光刻、刻蝕等核心設備價值量較低，同時技術(shù)門檻較低，比較容易首先實現(xiàn)全面國產(chǎn)化。

    智研咨詢發(fā)布的《2020-2026年中國半導體清洗設備行業(yè)市場經(jīng)營管理及競爭策略建議報告》數(shù)據(jù)顯示：2015年全球半導體清洗設備市場規(guī)模為26億美元，預計2020年將達37億美元，復合增長率為7%。預計中國大陸地區(qū)每年的濕法清洗設備的空間在15-20億美元，到2023年清洗機的國產(chǎn)化率可達40%-50%，即國產(chǎn)設備的市場空間在40-70億元；且預計未來12寸晶圓的槽式和單片式清洗設備將是市場的主要增量。其中單片式清洗機領域公司有望成為少數(shù)幾家具備核心技術(shù)的國產(chǎn)設備商。

    全球半導體清洗設備市場容量穩(wěn)步增長

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    2019年全球清洗設備價值量占比約5.5%

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    清洗為半導體制程重要環(huán)節(jié)，是影響器件成品率及可靠性最重要的因素之一。為減少雜質(zhì)對芯片良率的影響，實際生產(chǎn)中不僅需要提高單次清洗效率，還需要在幾乎所有制程前后都進行頻繁的清洗，清洗步驟約占整體步驟的1/3。

    清洗工藝在半導體制程各環(huán)節(jié)均有參與

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    集成電路制程升級，清洗環(huán)節(jié)重要性日益凸顯。隨著半導體芯片工藝技術(shù)的發(fā)展，工藝技術(shù)節(jié)點進入28納米、14納米等更先進等級，工藝流程不斷延長且越趨復雜，產(chǎn)線成品率也會隨之下降。造成這種現(xiàn)象的一個原因就是先進制程對雜質(zhì)的敏感度更高，小尺寸污染物的高效清洗更困難。解決的方法主要是增加清洗步驟，晶圓清洗將變得更加復雜、重要及富有挑戰(zhàn)性。

    隨著制程推進，芯片良率逐步降低

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    隨著制程推進，清洗步驟不斷增加

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    按照清洗原理來分，清洗設備可分為干法清洗設備和濕法清洗設備。濕法工藝是指使用腐蝕性或氧化性較強的溶劑進行噴霧或擦洗，使硅表明的雜質(zhì)與溶劑發(fā)生化學反應，生成可溶性物質(zhì)或氣體，從而將晶圓表明的顆?；蚱渌饘匐x子清洗掉。干法工藝指不使用化學試劑的清洗技術(shù)，包含等離子清洗、氣相清洗等。在實際生產(chǎn)過程中一般將兩種方法結(jié)合使用，目前90%以上的清洗步驟以濕法設備為主，少部分特定站點使用干法清洗來提高清洗效率。至純科技主要生產(chǎn)濕法清洗設備。

    濕法清洗工藝占比達90%

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    目前中國市場主要濕法設備廠商以日本和歐美為主，本土設備商主要有至純科技、北方華創(chuàng)和盛美半導體，但三家合計市場份額不到10%。目前來看，盛美半導體目前主要產(chǎn)品是單片式清洗設備，至純科技的單片式清洗設備正在客戶驗證階段，北方華創(chuàng)和至純科技目前仍主要以槽式清洗為主，三者核心產(chǎn)品存在差異，正面競爭較少。

全球清洗設備市場份額

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    中國國內(nèi)的半導體清洗設備的主要廠家有三家，體量都不大，分別是盛美半導體，北方華創(chuàng)和至純科技。盛美股份2019年收入為7.57億元，凈利潤為1.35億元。產(chǎn)品主要是單片式清洗設備，占比總收入的72.81%，槽式清洗機設備占比總收入的6%。北方華創(chuàng)主要清洗設備產(chǎn)品為單片及槽式清洗設備，可適用于技術(shù)節(jié)點為65nm、28nm工藝的芯片制造。其中，北方華創(chuàng)自有低端的單片清洗設備，并通過收購美國Akrion實現(xiàn)了槽式清洗設備的國產(chǎn)化。北方華創(chuàng)2019年收入40.58億元，凈利潤3.09億元。清洗機業(yè)務大約占比北方華創(chuàng)總收入的5%左右。盛美半導體在國內(nèi)半導體清洗行業(yè)單片式領域市占率為第一。產(chǎn)品線最為豐富，具有顯著技術(shù)優(yōu)勢。其SAPS、TEBO技術(shù)使兆聲波能量均勻分布在晶圓上，避免其對晶圓電路的損害，同時又提高了清洗效果。北方華創(chuàng)和至純科技主要以槽式清洗為主，至純科技的單片式清洗設備正在客戶驗證階段，目前三者核心產(chǎn)品存在差異，正面競爭較少。至純科技是單片式清洗機的后進入者，但團隊技術(shù)實力強。目前在國內(nèi)市場，各晶圓代工廠主要產(chǎn)線依舊集中在14nm以上，至純科技剛切入單片式領域，主要是定制個性化單片式清洗設備，目前足以滿足各代工廠的需求。

國產(chǎn)半導體設備商對比